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氧不仅可以通过钝化铜表面活性位点而降低石墨烯的成核几率和密度，生最更重要的是，生最衬底表面氧的存在可以加速石墨烯的生长，并改变石墨烯的生长动力学行为。同时，乐购这种转移过程中利用了高分子PMMA作为转移介质，乐购且转移过程中容易造成石墨烯薄膜的破损和高分子介质的残留，严重影响了石墨烯薄膜的性能和表面平整度，导致器件性能低、易短路、大面积制备困难。

将覆盖有转移介质和石墨烯的金属基底放置于金属刻蚀剂中，王先待金属被完全刻蚀后，转移介质和石墨烯复合结构漂浮在刻蚀液的表面上。6.总结近年来，生最石墨烯的CVD法制备、物性研究和应用探索均取得了巨大进展。近日，乐购北京大学刘忠范院士和彭海琳教授在ChemicalReviews期刊上发表了综述文章BridgingtheGapbetweenRealityandIdealinChemicalVaporDepositionGrowthofGraphene。

提高Cu表面的平整度的方法有很多，王先如机械、王先化学抛光，高温退火等，也可以通过氧气或三聚氰胺预处理，钝化金属衬底表面的催化活性中心，降低其催化裂解碳源的能力，进而实现对石墨烯成核密度的控制。因此，生最扩大晶畴的尺寸和控制晶畴的晶向一致并实现无缝拼接是增加单晶面积，减少晶界的关键要素。

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